通过该设备在衬底表面溅射一层薄膜。原理：由惰性气体产生辉光放电现象生成带电粒子，带电粒子经过电场加速后轰击固体靶材表面，使靶材表面原子和分子被轰击飞溅出来，同时产生二次电子，二次电子再次撞击气体分子使其电离产生更多的带电粒子，从靶材溅射出来的粒子在低压气氛中向衬底作渡越运动，碰撞到衬底上并被衬底吸附，最终凝聚在衬底形成所需要的薄膜。
设备参数:
整机尺寸：0.8（L)×1.1（W)×1.9（H)（单位M）；
真空系统：机械泵+分子泵/低温泵（国产/进口）；
极限真空：5×10-5Pa/8×10-6Pa；
溅射靶：2-3寸，2-3个（国产/进口）；
靶枪电源：DC/RF/Pulse DC；
基片尺寸：4-6英寸 (加热/水冷）；
工艺气体：2-3路；
控制系统：PLC+MHI/PC 半/全自动软件控制。
应用领域：高校科研院所实验室进行钙钛矿太阳能电池、OLED、锂电池、量子点LED、OPV等研发研究。